기상 기술 | 주식회사 크리에이티브 코팅스

GAS PHASE기상 기술

기상 기술

Gas Phase

"진공·대기압"과 함께 최적의 메서드로 제안!

유기·무기(금속, 화합물, 산화물, 질화물)의 성막 가능! 막 두께 1nm~10μm의 치밀하고 고품질의 성막 가능!

Previous Cases기술 가공 사례

고객이 검토하고 있는 워크 재질 및 막종, 막 두께부터 최적의 가공 사례를 제안하고 있습니다. 크리에이티브 코팅스의 기상 기술은 수지원료· 연료전지 등의 ʻ신소재·신재료' '에너지', 의료기구·기기 등의 ʻ의료·헬스케어', 전자부품·새 디스플레이 등의 '모바일 단말기' '웨어러블 기기' '오토모티브' 등 다양한 분야에서 활용되고 있습니다. 고객의 니즈 및 과제 해결에 필요한 기술이 여기에 있습니다.

대상 소재

유기물

고객의 의뢰

"수지에 코팅하고 싶다"

고온에 약한 소재도 저온에서 성막이 가능합니다

무기물

고객의 의뢰

"유리, 세라믹, 금속에 코팅하고 싶다"

균일하고 밀착성 좋은 성막이 가능합니다

수지 용기

고객의 의뢰

"수지 용기에 가식하고 싶다"

원하는 색상, 감촉 사이에 도포가 가능합니다

필름 유리

고객의 의뢰

"필름·유리에 기능성을 주고 싶다"

UV 차단 및 절연성 등 다양한 기능성을 부여할 수 있습니다

분체

고객의 의뢰

"분체에 코팅하고 싶다"

다양한 입도를 지닌 분체에 성막함으로써 비용 절감 및 기능성 향상이 가능합니다

막종

금속 막

고객의 의뢰

"금속막을 형성하고 싶다"

순도가 높은 금속 재료도 고순도를 유지한채 밀착성 좋은 성막이 가능합니다

합금 막

고객의 의뢰

"합금막을 형성하고 싶다"

원하는 조성, 결정형에 맞춘 성막이 가능합니다

산화막

고객의 의뢰

"산화막을 형성하고 싶다"

반사 및 차광, 투명 전극 등 다양한 참가물의 성막이 가능합니다

두께

1nm (나노)

고객의 의뢰

"나노오더의 박막을 형성하고 싶다"

치밀하고 균일하면서도 균질한 초박막 성막이 가능합니다

초미립자

고객의 의뢰

"10㎚ 이하의 박막을주고 싶다"

10nm의 분체에도 균일하고 균질한 코팅이 가능합니다

~1000nm

고객의 의뢰

"100nm~1000nm의 박막을 형성하고 싶다"

원하는 막 두께의 성막이 가능합니다

Technology system기술 방식

DEPOSITION

증착 방식

대상 카탈로그
PDF

CVD

CVD 방식

ALD

ALD 방식

대상 카탈로그
PDF

SPUTTERING

스퍼터링 방식

DLC

DLC 방식

Coating apparatus코팅 장비

희망하는 최적의 기술 및 코팅방법을 제안하여 고품질의 막을 제공합니다

ALD 장치 /
CMVA series

ALD로는 어렵다고 하는 저온에서의 고품질 성막 가능!

대상 카탈로그
PDF

배럴형 ALD 장치 /
CMVB series

ALD 장치 및 배럴기구의 융합

대상 카탈로그
PDF

버블링 CVD 장치 /
CMB series

액체→기체
  • 저온에서 저비용 & 고품질 성막 가능
  • 거의 모든 금속 산화막에 대응
성막 사양
  • 성막 온도<300 ℃
  • 성막 속도> 100nm / min
응용 사례
  • 보호막, 절연막, 광학막

고주파 여기 DLC 저온 성막 장치
장비 / CMVC series

CMVC
에 의한 수탁 성막 사례

기존의 DLC 성막은 500℃ 이상의 고온이 필요하였지만, 본 장치는 고주파 파워와 직류 고전압을 활용하여 150℃ 이하의 저온에서 밀착성 좋은 DLC 성막이 가능합니다 .

Unit유닛

플라스마원

희망하는 이온, 라디칼 공급

나노 버블 발생 디스크

세정 효과 특수 약품을 사용하지 않고 복잡한 형상 및 미세형상에 대응
살균, 정화 효과 고농도 산소원/오존원
분리, 분산 효과 균일 미세 입도에 의한 균일 분산

Deposition Contract성막 수탁 서비스

다양한 공법으로 대응합니다
【드라이(건식)】 진공 증착기·스퍼터링·CVD
【웨트(습식)】 스프레이·코터·딥

ALD에 의한 수탁 성막 사례

성막 스펙

워크: 300mm 웨이퍼, 각종 금속 부품, 각종 수지 부품·필름, 각종 분체
크기: 400×400×400mm 이내

적응 막

SiO2、Al2O3、TiO2、ZnO、ZrO、Nb3O5

막 두께

3~100 nm