INTELLECTUAL PROPERTY POLICY지적 재산권 정책

지적 재산권 정책

INTELLECTUAL PROPERTY POLICY

모방 기술주의 환기

크리에이티브 코팅 스의 [모방 기술]에 대한주의당사는 적층 세라믹 콘덴서 등의 전자 부품의 단부에 외부 전극을 형성하는 방법 및 장치에 대해 일본은 물론 유럽, 미국, 한국, 대만, 중국, 멕시코, 동남아 국가 등 주요 전자 부품 생산국 특허 특허청에 특허 출원하고 있습니다.
이 특허 출원은 정반과 전자 부품을 유지 한 치구와을 X · Y · Z 축 움직임의 조합으로 전후 좌우 나선형으로 정반의 표면과 상대적으로 이동시킴으로써 전자 부품 미리 형성된 페이스트 층 중 불필요한 페이스트를 제거하는 얼룩 공정을 정의하고 있습니다. 이 얼룩 공정에는 두 가지가 있습니다. 하나는 여분의 페이스트를 정반의 표면에 전사시키는 것입니다 (드라이 방식이라 칭함). 다른 하나는 여분의 페이스트를 정반의 표면에 미리 형성된 페이스트 층에 전사시키는 것입니다 (습식 방식이라 칭함).

이러한 건조 방식 또는 습식 방식에 의한 얼룩 공정을 실시하는 방법 및 장치는 당사의 특허 출원의 특허 청구 범위에 기재된 발명과 저촉되는 것이므로, 신속하게 그 실시를 중지하십시오.
그런 모방 기술에 대해서는 당사는 그 대청소를 향해 단호한 태도로 대응합니다.
이를 위해 정기적으로 전자 부품의 단면 전극 형상 분석을 실시하고, 도포 형상으로 우리를 모방 한 기술로 생산 된 것인지를 넓게 공부하고 있습니다.
우리 고유의 기술에 대한 특허권이 성립하고 그 특허권의 침해가 인정되는 경우에는 법적 조치도 불사 각오로 내립니다.

앞으로도 계속 저희 제품을 애용 해 주실 것을 부탁드립니다.