지적 재산권 정책 | 주식회사 크리에이티브 코팅스

INTELLECTUAL PROPERTY POLICY지적 재산권 정책

지적 재산권 정책

INTELLECTUAL PROPERTY POLICY

모방기술 주의 환기

크리에이티브 코팅스의 【모방기술】에 대한 주의당사는 적층 세라믹 콘덴서 등의 전자 부품의 단부에 외부 전극을 형성하는 방법 및 장치에 대하여 일본은 물론 유럽, 미국, 한국, 대만, 중국, 멕시코, 동남아 국가 등 주요 전자 부품 생산국 특허청에 특허 출원하고 있습니다.
이 특허 출원은 정반과 전자 부품을 유지한 지그를 X·Y·Z 축 움직임의 조합으로 전후좌우, 나선형으로 정반의 표면과 상대적으로 이동시킴으로써 전자 부품에 사전에 형성된 페이스트층 중 여분의 페이스트를 제거하는 블롯 공정을 정의하고 있습니다. 이 블롯 공정에는 두 가지가 있습니다. 하나는 여분의 페이스트를 정반의 표면에 전사시키는 것입니다(드라이 방식이라 칭한다). 다른 하나는 여분의 페이스트를 정반의 표면에 사전에 형성된 페이스트층에 전사시키는 것입니다(웨트 방식이라 칭한다).

이러한 드라이 방식 또는 웨트 방식에 의한 블롯 공정을 시행하는 방법 및 장치는 당사의 특허 출원의 특허 청구 범위에 기재된 발명과 저촉되는 것이므로 신속하게 그 시행을 중지해주십시오.
이러한 모방기술에 대해서는 당사는 그 일소를 위해 단호한 태도로 대응합니다.
이를 위해 정기적으로 전자 부품의 단면 전극 형상 분석을 시행하고 도포 형상에 의해 당사를 모방한 기술로 생산된 것인지를 널리 조사하고 있습니다.
당사 고유의 기술에 대한 특허권이 성립하여 그 특허권의 침해가 인정되는 경우는 법적 조치도 강구할 각오입니다.

앞으로도 계속해서 당사 제품을 애용해 주시기를 부탁드립니다.